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    鋁靶材

    鋁靶材是一種用于物理氣相沉積(PVD)制備薄膜的關鍵材料。它具有卓越的導電性和導熱性,因此廣泛用于半導體工業、電子器件制造和光學涂層,用于制備導電薄膜、金屬層、反射鏡涂層且可應用于散熱解決方案。鋁靶材在多個高科技領域中得到廣泛應用,為各種應用提供了高質量的薄膜材料。

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    產品詳情

    品名

    鋁靶材

    成分

    Al

    外觀

    銀白色,平板或者圓筒

    純度(%)

    99.999%

    規格(mm)

    Φ125×Φ171×L2342、W1130×L1200×T10、W200×L2650×T12

    雜質≤ (ppm)

    Fe

    Ti

    Si

    Ni

    Na

    Cu

    Mg

    K

    Mo

    Cr

    Sum

    2

    1

    2

    1

    1

    2

    2

    2

    1

    1

    10



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